随着微电子工业向大尺寸、高集成化、高均匀性、高完整性的方向迅速发展，广泛用于单晶硅气相研磨和外延机械腐蚀的电子级氯化氢也有了新的要求。除纯度为99.999%以上外，氯化氢的THC、H2O、金属离子等有机杂质的含量越低越好。
    电子级氯化氢主要用于外延生长前硅和砷化镓的高温气相刻蚀，去除钠离子。另外，高纯度氯化氢还用于金属表面的化学处理，激光用于混合气体、薄膜生产及碳纤维表面处理。过去我国大多从美国、日本等国进口电子级氯化氢，但近年来我国电子工业所需化学气体的研究开发在技术上取得了许多突破和发展。